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别神化EUV光刻机,没它一样量产Seven纳米等芯片
2022-07-26 06:10:04 来源: 作者: 【 】 浏览:1次 评论:0

EUV光刻机是当下最先进的芯片生产制造设备,主要用于生产制造7nm及以下制程的芯片,可以说,EUV光刻机出现后,其就供不应求。

 

 

据悉,ASML将大量的EUV光刻机出货给了台积电,剩下的则出货给了三星和英特尔,由于三星的数量少于台积电,所以在产能和良品率方面相对落后。

 

 

在这样的情况下,三星李在镕亲自前往荷兰总部,目的是想获得更多EUV光刻机,并想优先获得下一代EUV光刻机等更先进的设备。

而国内厂商早就全款订购了一台EUV光刻机,但由于各种原因,至今都没有到货,ASML也明确表示在没有许可的情况下,EUV光刻机是无法自由出货。

 

没有EUV光刻机,就无法量产7nm等制程的芯片,这实际上是一个错误的观点,而且,还把EUV光刻机给神化了,实际上,没它一样量产Seven纳米等芯片。

 

 

首先,第一代7nm芯片就是用DUV光刻机量产的,台积电就是这么干的,采用的是多层曝光工艺,只不过,相比EUV光刻机有点费事。

目前,厂商已经用多层曝光工艺量产了14nm芯片,良品率等敢于同国际大厂相比较,这说明国内厂商掌握的多层曝光工艺已经十分纯熟了。

 

在这样的情况下,用DUV光刻机量产7nm芯片有戏,毕竟,都是采用多层曝光工艺。

 

 

更何况,厂商都已经小范围内试产了N+1工艺的芯片,这种芯片在逻辑面积上与台积电的7nm芯片十分相似,只不过主打低功耗。

 

 

台积电还明确表示用DUV光刻机也能够量产5nm芯片,只不过工艺更复杂一些,成本更高一些。

要知道,越是先进制程的芯片,其就是逻辑面积变小,更小的面积中内置更多晶体管,使用DUV光刻机虽然有难度,只不过是工艺复杂、良品率会一些。

 

否则,厂商也不会在仅有DUV光刻机的情况下,就完成了7nm芯片的研发任务,还小范围内试产了N+1工艺的芯片。

 

 

要知道,越是先进制程的芯片,其就是逻辑面积变小,更小的面积中内置更多晶体管,使用DUV光刻机虽然有难度,只不过是工艺复杂、良品率会一些。

 

否则,厂商也不会在仅有DUV光刻机的情况下,就完成了7nm芯片的研发任务,还小范围内试产了N+1工艺的芯片。

 

 

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NIL工艺的出现,让EUV光刻机可以说彻底掉下神坛,因为在NIL工艺之下,根本就不用使用EUV光刻机,依旧可以将芯片制程缩小至5nm。

 

 

 

 

NIL工艺的出现,让EUV光刻机可以说彻底掉下神坛,因为在NIL工艺之下,根本就不用使用EUV光刻机,依旧可以将芯片制程缩小至5nm。

 

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Tags:神化 EUV 一样 Seven 纳米 芯片 责任编辑:ranjc
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