别神化EUV光刻机，没它一样量产Seven纳米等芯片 - 科技频道

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别神化EUV光刻机，没它一样量产Seven纳米等芯片

2022-07-26 06:10:04 来源: 作者: 【大中小】浏览:45次评论:0条

EUV光刻机是当下最先进的芯片生产制造设备，主要用于生产制造7nm及以下制程的芯片，可以说，EUV光刻机出现后，其就供不应求。

据悉，ASML将大量的EUV光刻机出货给了台积电，剩下的则出货给了三星和英特尔，由于三星的数量少于台积电，所以在产能和良品率方面相对落后。

在这样的情况下，三星李在镕亲自前往荷兰总部，目的是想获得更多EUV光刻机，并想优先获得下一代EUV光刻机等更先进的设备。

而国内厂商早就全款订购了一台EUV光刻机，但由于各种原因，至今都没有到货，ASML也明确表示在没有许可的情况下，EUV光刻机是无法自由出货。

没有EUV光刻机，就无法量产7nm等制程的芯片，这实际上是一个错误的观点，而且，还把EUV光刻机给神化了，实际上，没它一样量产Seven纳米等芯片。

首先，第一代7nm芯片就是用DUV光刻机量产的，台积电就是这么干的，采用的是多层曝光工艺，只不过，相比EUV光刻机有点费事。

目前，厂商已经用多层曝光工艺量产了14nm芯片，良品率等敢于同国际大厂相比较，这说明国内厂商掌握的多层曝光工艺已经十分纯熟了。

在这样的情况下，用DUV光刻机量产7nm芯片有戏，毕竟，都是采用多层曝光工艺。

更何况，厂商都已经小范围内试产了N+1工艺的芯片，这种芯片在逻辑面积上与台积电的7nm芯片十分相似，只不过主打低功耗。

台积电还明确表示用DUV光刻机也能够量产5nm芯片，只不过工艺更复杂一些，成本更高一些。

要知道，越是先进制程的芯片，其就是逻辑面积变小，更小的面积中内置更多晶体管，使用DUV光刻机虽然有难度，只不过是工艺复杂、良品率会一些。

否则，厂商也不会在仅有DUV光刻机的情况下，就完成了7nm芯片的研发任务，还小范围内试产了N+1工艺的芯片。

要知道，越是先进制程的芯片，其就是逻辑面积变小，更小的面积中内置更多晶体管，使用DUV光刻机虽然有难度，只不过是工艺复杂、良品率会一些。

否则，厂商也不会在仅有DUV光刻机的情况下，就完成了7nm芯片的研发任务，还小范围内试产了N+1工艺的芯片。

NIL工艺的出现，让EUV光刻机可以说彻底掉下神坛，因为在NIL工艺之下，根本就不用使用EUV光刻机，依旧可以将芯片制程缩小至5nm。

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责任编辑：ranjc

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